PECVD 薄膜沉积
PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是指 等离子体增强化学的气相沉积法。是生产人造钻石的一种工艺,这种方法有很多优点,比如颜色等级高,成膜质量好等。 中文名 等离子体...
中科院国家重大科技基础设施建设和立项情况
邓勇(2017年1月16日) 2017-01-17【字体:大 中 小】 重大科技基础设施是为探索未知世界、发现自然规律、实现技术变革提供极限研究手段的大型复杂科学研究系统,是突破科学前沿、解...




